等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
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多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項目團隊自主研發(fā)的CVD設備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡單廉價，且具有傳統(tǒng)半導體生長工藝的兼容性。
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