澤攸科技等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)產(chǎn)品(PECVD)介紹
日期：2023-04-19
澤攸科技完全自主研制等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）及二維材料轉(zhuǎn)移臺。
產(chǎn)品介紹
多功能電感耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻 的方法將目標氣體進行電離，促進化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項目團隊自主研發(fā)的CVD設(shè)備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導(dǎo)體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維 材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡單廉價，且具有傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長工藝的兼容性。
符合CE認證標準的二維材料轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，可用于機械解理 的各種二維材料的轉(zhuǎn)移及二維材料范德華異質(zhì)結(jié)的堆疊，尤其適用于二維材料的準確轉(zhuǎn)角調(diào)控。
樣品可以多方向多角度的相對移動，大氣環(huán)境下也可保 障二維異質(zhì)結(jié)的界面干凈無氣泡；精巧的設(shè)計，全電動 控制，可提供真空環(huán)境，也可以輕松置于手套箱中操 作，適用于穩(wěn)定性較差的二維磁性材料等研究。
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作者：澤攸科技