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    如何減少透射樣品桿本身對透射電子成像的干擾?

    日期:2023-07-27

    減少透射樣品桿本身對透射電子成像的干擾是在透射電子顯微鏡(TEM)成像中十分重要的,因為任何干擾都可能影響到成像質量和分析結果。以下是幾種方法可以幫助減少透射樣品桿的干擾:

    選擇非磁性材料: 透射樣品桿通常由非磁性材料制成,以防止磁場干擾電子束的傳輸。典型的非磁性材料包括碳、銅、鋁等。避免使用磁性材料,以確保電子束能夠穩定傳輸而不受到干擾。

    減小桿尺寸: 將透射樣品桿的尺寸盡可能減小,特別是在與電子束路徑接觸的部分。較小的桿尺寸可以減少樣品桿對電子束傳輸的阻礙,從而減少干擾。

    使用低材料密度桿: 選擇低材料密度的透射樣品桿,可以減少桿本身與電子束之間的相互作用,從而降低干擾。

    最小化厚度: 在透射樣品桿的設計中,盡量將其厚度最小化,特別是在電子束傳輸的路徑上。較小的桿厚度可以降低散射和吸收的影響。

    校準和調整: 對透射樣品桿進行校準和調整是確保其在TEM中準確運行的關鍵。定期檢查和維護透射樣品桿,確保其位置正確,沒有松動或偏差。

    優化TEM參數: 調整TEM的參數,例如電子束的能量、聚焦和孔徑,可以優化成像條件,減少透射樣品桿對電子束傳輸的影響。

    樣品預處理: 對于非導電樣品,進行金屬涂覆等預處理措施可以增加樣品的導電性,從而減少透射樣品桿對電子束的影響。

    通過采取這些措施,可以大大減少透射樣品桿本身對透射電子成像的干擾,確保高質量和準確的TEM成像和分析。

     透射電鏡真空轉移樣品桿

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    作者:澤攸科技


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