如何在掃描電鏡中測量顆粒的大小和分布
日期:2024-09-13
在掃描電子顯微鏡(SEM)中,測量顆粒的大小和分布通常需要結合圖像采集和后期圖像處理分析。以下是具體步驟:
1. 樣品制備
樣品制備是顆粒測量的關鍵步驟。確保顆粒分布均勻,避免團聚,這將有助于更準確地進行測量。
樣品清潔:確保樣品表面清潔,避免污染。
導電處理:對非導電樣品進行鍍金、鍍碳等處理,避免充電效應影響成像。
顆粒分散:使用適當的技術(如超聲、離心等)將顆粒均勻分散在樣品臺上。
2. 圖像獲取
在 SEM 中獲取圖像時,需要確保圖像的分辨率和對比度足夠高,以便能夠清晰地看到顆粒的邊界和形狀。
選擇適當的加速電壓:一般使用較低的加速電壓(如 1-5 kV)以獲得清晰的表面形貌,避免穿透樣品。
優化焦距和工作距離:根據樣品的尺寸和形狀優化焦距和工作距離,以確保顆粒的邊緣清晰可見。
獲取多張圖像:采集多個視野的圖像,確保不同區域的顆粒均勻分布。
3. 圖像處理與分析
3.1 圖像導入
將采集到的 SEM 圖像導入圖像處理軟件中進行分析。常用的軟件包括 ImageJ、Igor Pro、Matlab 等。
使用 ImageJ:這是一個免費的開源圖像處理軟件,適用于各種顆粒分析。
3.2 圖像預處理
圖像的預處理步驟包括增強對比度、去除噪聲等,以便更好地識別顆粒邊界。
灰度處理:將彩色或原始圖像轉換為灰度圖像,以便更好地識別顆粒。
3.3 圖像閾值分割
使用閾值法將顆粒從背景中分離出來。這是圖像分割的關鍵步驟,可以通過調整閾值參數將顆粒與背景區分開來。
手動閾值:Image → Adjust → Threshold
自動閾值:可以使用自動閾值方法(如 Otsu 閾值法)來自動識別顆粒的邊界。
3.4 邊緣檢測與顆粒分割
通過邊緣檢測算法識別顆粒的邊界。常用的邊緣檢測算法包括 Sobel 算子、Canny 邊緣檢測等。
邊緣檢測:Process → Find Edges
顆粒填充:確保分割后的顆粒是閉合區域,并填充顆粒內部區域。
3.5 顆粒測量
在圖像處理完成后,可以使用軟件的分析功能來測量顆粒的大小和分布。
顆粒測量:使用 Analyze Particles 工具對每個顆粒進行測量,得到其面積、直徑等參數。
在設置中,可以指定最小和最大顆粒尺寸,以排除雜質或背景噪聲。
測量參數:
面積(Area)
等效圓直徑(Equivalent Circle Diameter)
周長(Perimeter)
顆粒長軸和短軸(Major Axis, Minor Axis)
軟件會自動計算這些參數,并生成顆粒大小的統計數據。
4. 顆粒分布分析
在獲取顆粒尺寸后,可以進一步分析其尺寸分布。常見的分布分析方法包括:
4.1 直方圖
根據顆粒尺寸生成直方圖,顯示顆粒尺寸的頻率分布。可以使用統計軟件或圖像分析軟件來繪制顆粒尺寸的直方圖。
使用 Igor Pro:在 Igor Pro 中可以使用 Histogram 函數生成顆粒尺寸的直方圖:Histogram/ binnedData=顆粒尺寸數據
4.2 顆粒分布擬合
可以將顆粒分布數據與常見的分布模型進行擬合,例如正態分布或對數正態分布,以獲得顆粒的統計特性(如平均值、標準差等)。
使用 Igor Pro 擬合:CurveFit / Gauss 顆粒尺寸數據
5. 高級分析(可選)
如果顆粒的形態復雜或分布不均勻,可能需要更高級的分析工具,例如:
形態學分析:分析顆粒的形狀、長寬比等特征。
三維顆粒分析:如果需要分析顆粒的三維形態,可以結合 SEM 的立體成像功能或其他三維表面測量工具。
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作者:澤攸科技