掃描電鏡如何進行表面形貌分析？
日期：2023-12-15
掃描電鏡是一種常用于表面形貌分析的先進顯微技術。以下是進行表面形貌分析的一般步驟：
樣品制備：
樣品通常需要被金屬噴鍍（或其他導電性涂層），以增強其導電性，以便在SEM中觀察。
樣品的大小通常在毫米到厘米的范圍內，并且需要被切割或磨削到適當的尺寸。
導電涂層：
對于非導電性樣品，需要在樣品表面涂覆一層導電涂層，通常是金屬（如金或鉑）薄層。這可以通過真空蒸鍍或濺射等方法實現。
樣品安裝：
將樣品安裝在SEM樣品臺上，確保它穩固且導電性良好。
真空抽取：
在進行觀察之前，需要將SEM室內的空氣抽取，創建真空環境，以避免電子束與空氣分子相互作用。
參數設置：
設置SEM的工作參數，包括加速電壓、電流、放大倍數等。這些參數的選擇取決于具體的樣品和所需的分辨率。
對焦和調整：
使用SEM的對焦和調整功能，確保獲得清晰的圖像。
圖像獲取：
使用電子束掃描樣品表面，通過探測所產生的信號生成圖像。通常，這些信號包括二次電子圖像（SEI）和反射電子圖像（BEI）等。
分析和測量：
利用SEM軟件進行圖像分析和測量，包括顆粒大小、表面形貌等參數。
結果解釋：
根據SEM圖像和分析結果，解釋樣品的表面形貌特征，提取有關樣品性質的信息。
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作者：澤攸科技