掃描電鏡中的輻射損傷和樣品保護(hù)措施是什么
日期：2023-09-18
在掃描電鏡中，電子束與樣品交互可能會導(dǎo)致輻射損傷，特別是對于生物樣品或熱敏感材料。以下是一些常見的樣品保護(hù)措施和減輕輻射損傷的方法：
低電子束能量： 降低電子束的能量可以減小樣品受到的輻射損傷。較低的電子能量通常會導(dǎo)致較少的電子穿透樣品，減小對樣品的破壞。
低電子束電流： 減小電子束的電流可以降低輻射損傷的風(fēng)險。使用更低的電子束電流可以減小樣品上的電子密度，減少樣品的輻射敏感性。
冷凍樣品： 對于生物樣品，可以將樣品冷凍以減緩輻射損傷的速度。低溫可以減少電子束的熱效應(yīng)，有助于保護(hù)樣品的生物結(jié)構(gòu)。
使用導(dǎo)電性涂層： 在樣品表面涂覆薄導(dǎo)電涂層，如金或碳，有助于減小電子束的透射和反射，從而減小電子束的損傷效應(yīng)。
降低像增益： 在獲取圖像時，降低像增益可以減小輻射損傷的程度。盡管這可能導(dǎo)致圖像質(zhì)量降低，但可以減小對樣品的損害。
快速成像： 盡量減小每個像素的曝光時間，以減少樣品受到的電子束暴露時間，從而降低輻射損傷的風(fēng)險。
使用低真空模式： 在SEM中，可以使用低真空模式來減小電子束與樣品之間的相互作用，從而降低輻射損傷。
樣品旋轉(zhuǎn)： 對于均勻掃描，可以使樣品持續(xù)旋轉(zhuǎn)，以分散電子束的能量，減小輻射損傷的程度。
光子相干輔助成像： 一些先進(jìn)的SEM系統(tǒng)結(jié)合了光子相干輔助成像技術(shù)，通過使用可見光來輔助成像，減小了電子束對樣品的傷害。
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作者：澤攸科技