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掃描電鏡（SEM）通過對電子束進行聚焦和定位來實現高分辨率的顯微觀察。控制電子束的聚焦和定位主要涉及磁透鏡系統和樣品掃描控制。

電子束聚焦： SEM中的電子束聚焦主要是通過磁透鏡系統來實現的。這些磁透鏡系統包括透鏡和除焦磁鐵等元件。當電子束通過透鏡系統時，透鏡會對電子束進行聚焦，使其在樣品表面形成一個小的聚焦點。透鏡系統中的電流或電壓可以調節，從而控制電子束的聚焦效果。聚焦后的電子束能夠提供更小的束斑（beam spot），從而獲得更高的分辨率。

電子束定位：電子束的定位是指將電子束準確地定位在樣品的不同區域。這是通過控制樣品臺的運動來實現的。樣品臺可以在水平和垂直方向上進行微小的運動，使得電子束可以掃描在樣品表面的不同區域。通過控制樣品臺的運動，可以將電子束定位在特定的樣品區域，從而實現對不同區域的觀察和分析。

SEM中的電子束聚焦和定位通常由計算機控制系統來實現。操作者可以通過計算機界面調整電子束的聚焦和定位參數，從而實現所需的觀察和分析。通過對電子束進行準確的聚焦和定位，SEM可以提供高分辨率和高精度的顯微觀察，并在樣品表面獲取豐富的信息。

ZEM15臺式掃描電子顯微鏡

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