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SEM（掃描電子顯微鏡）的放大倍數可以非常高，可以達到數百萬倍甚至上千萬倍。放大倍數取決于所使用的SEM儀器的類型、工作模式和目標樣品的特性。通常，SEM的放大倍數分為兩種類型：低放大和高放大。

低放大倍數范圍一般在幾十倍到數千倍之間，主要用于樣品的外觀表面形貌觀察和分析，如觀察材料表面的微觀結構、紋理、粗糙度等。

高放大倍數可以達到數十萬倍或以上，主要用于納米級別的成像和分析，例如納米結構、晶體缺陷、表面形貌、材料化學組成等。在高放大倍數下，可以通過SEM的EDS（能譜分析）或者EBSD（電子背散射衍射）技術來確定樣品的元素組成或晶體結構。

臺式掃描電鏡

需要注意的是，放大倍數只是SEM分析的一個指標，SEM分析還可以使用其他技術和參數，如掃描速度、分辨率、信噪比等。不同的應用和實驗要求會需要不同的SEM工作模式和參數設置。

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